CKD Technology sandėlyje yra ne tik visiškai naujų mašinų, kurias galima įsigyti iš karto.
Mes taip pat turime išsamią nuomos verslą, pasiruošę patenkinti jūsų specifinius gamybos reikalavimus ir žymiai sumažinti jūsų pradines investicijas. Norėdami gauti daugiau informacijos, susisiekite su mumis.
CKD turi profesionalių inžinierių komandą, pasiruošusią teikti „iki raktų“ paslaugą.
Dėl prekybos naudotomis mašinomis susisiekite su mumis Whatspp arba el.
---------------------------------------------------------------------------------------
MYS10 serija yra visiškai automatizuota plazmos apdorojimo sistema, sukurta naudoti tokiuose sektoriuose kaip puslaidininkiai, elektronika, SMT, optoelektronika ir medicinos technologijos.
• Atmosferos slėgio argono plazmos sistema
• 100 mm pločio eilinis paketinis plazmos apdorojimas; siūlo 2–5 kartus didesnį efektyvumą ir daugiau nei 30 % mažesnes eksploatavimo išlaidas, palyginti su tradiciniais metodais
• 100% neutrali plazma; saugus ir švelnus jautriems elektroniniams komponentams – nesukelia plazmos bombardavimo, statinės elektros, kibirkščių, lankų, dulkių, didelio karščio, paviršiaus raibuliavimo ar UV spinduliuotės, todėl gaminiams nepakenks
• Kompaktiška plazminė platforma, pasižyminti dideliu lankstumu ir suderinamumu
• Universalūs cheminiai procesai: O2 procesas organiniams teršalams pašalinti; H2 metalo oksidų šalinimo ir gaminių paviršių aktyvinimo procesas
• Nesusidaro kietųjų dalelių ar skystų teršalų
| Pagrindinės specifikacijos | MYS10 |
| Galios reikalavimai | AC 200–240 V, 4,4 kW, 20 A, 50/60 Hz |
| Oro slėgio reikalavimai | 90 psi (6 barai) |
| Matmenys | 790 x 1200 x 1880 mm |
| Svoris | 800 kg |
| Sertifikavimo standartai | CE, SEMI S2 |
| Padėties nustatymo tikslumas | XY: ±30 µm @ 3σ; Z: ±10 µm @ 3σ |
| XYZ ašies pakartojamumas | XY: ±15 µm @ 3σ; Z: ±5 µm @ 3σ |
| Maksimalus greitis | 1000 mm/s (XY) |
| Pagreitis | 1,0 g |
| Vairavimo sistema | AC servo |
| Darbo platformos specifikacijos | |
| Takelio tipas | Diržas |
| Bėgio apkrova | 3 kg |
| Pagrindo storio diapazonas (be laikiklio) | 0,5–6 mm |
| Judėjimas Z ašimi | 100 mm |
| Maks. komponento aukštis (viršutinė pusė) | 26 mm |
| Maks. komponento aukštis (apatinė pusė) | 23 mm |
| Ryšio protokolas | SMEMA |
| Darbinis diapazonas | |
| Plazmos apdorojimo plotas (P × D) | 350–475 mm |
| Vandens kontakto kampas (WCA) po apdorojimo plazma | WCA < 10° (silicio plokštelė) WCA < 20° (ne metalinis) |
| Plazminio gydymo metodas | O2 organinių teršalų pašalinimo procesas H2 metalo oksido šalinimo procesas |
| Plazmos sistemos reikalavimai | |
| RF galia | 600W esant 27,12MHz |
| Pagrindinės plazminės dujos | Argonas |
| Proceso dujos | O2, N2, or H2 |
| Dujų tiekimo slėgio diapazonas | 40–100 psi (0,3–0,7 MPa) |
Adresas
5 aukštas, 2 pastatas, Nr. 182, Chang'an Xi'an Road, Chang'an Town, Dongguan, Guangdong provincija, Kinija.
Tel
paštas
